試験・分析の種類−理化学分析・機器分析

理化学分析・機器分析

有機分析

定性分析		定量分析		赤外分光分析
核磁気共鳴分析（NMR）		ガスクロマトグラフ分析（GC）		イオンクロマトグラフ分析（IC）
液体クロマトグラフ分析（HPLC）		ゲル浸透クロマトグラフ分析		紫外・可視分光分析（UV-VIS）
検知管分析		キャピラリー電気泳動分析（CE）		昇温ガス分析
フーリエ変換赤外分光分析（FT-IR）		ガスクロマトグラフ質量分析（GC/MS）		フーリエ変換赤外分光光度計/ガスクロマトグラフ（GC/FT-IR）
液体クロマトグラフ質量分析（LC/MS）		フーリエ変換核磁気共鳴分析（FT-NMR）

無機分析

質量分析		容量分析		組成分析
湿式分析		放射化分析		不純物分析
グロー放電質量分析（GDMS）		超微量分析		原子吸光光度分析（AA）
X線回折（XRD）		メスバウア分光分析		蛍光X線分析（XRF）
アーク発光分光分析		プラズマ発光分光分析（ICP）		誘導結合プラズマ質量分析（ICP-MS）
安定同位体比分析		レーザー照射型　誘導結合プラズマ質量分析（LA-ICPMS）		ガス成分分析（IGA）
誘導結合プラズマ発光分光分析（ICP-OES）		誘導結合プラズマ発光分光分析（ICP-AES）		二結晶型高分解能蛍光X線分析（HRXRF）
X線吸収微細構造解析法（XAFS）

表面分析

表面粗さ測定		接触角測定		オージェ電子分光分析（AES）
二次イオン質量分析（SIMS）		昇温脱離ガス分析		X線光電子分光分析（XPS）
化合物分布分析		元素分布分析		水素前方散乱分析
ラザフォード後方散乱分析（RBS）		レーザーラマン分析		電子線マイクロアナリシス分析（EPMA）
走査型プローブ顕微鏡分析（SPM）		飛行時間型二次イオン質量分析（TOF-SIMS）		電界放出型電子プロ−ブマイクロアナライザ分析（FE-EPMA）
ナノ-エレクトロスプレイ質量分析（ESI-MS）		低エネルギーＸ線分析（LEXES）		原子間力顕微鏡分析（AFM）
広がり抵抗測定（SRP）

構造解析

結晶構造解析		ラマン分光分析（RAMAN）		収束電子線回折
蛍光分光測定		NMR解析		顕微FT-IR解析
電子スピン共鳴解析		分光エリプソメトリー解析		微小角入射X線散乱解析（GIXS）
オプティプローブ解析		フォトルミネッセンス解析		電子線エネルギー損失分光解析
カソードルミネセンス解析		メスバウワー解析		化学状態解析

形態観察

透過型電子顕微鏡観察（TEM）		走査型電子顕微鏡観察（SEM）		電界放射型走査電子顕微鏡観察（FE-SEM）
集束イオンビーム加工観察（FIB）		共焦点顕微鏡観察		レーザー顕微鏡観察

物性解析

示差走査熱量測定（DSC）

示差熱熱重量同時測定（TG/DTA）

熱膨張測定（TMA）

その他

熱分析		機器分析		残留応力測定
含水率測定		燃料分析		組織分析
イオン分析		比重試験		熱膨張率測定
高分子化学物性試験		熱特性試験		金相学試験
顕微鏡組織試験		熱物性測定		分子量測定
粉体特性測定		劣化測定		焼入れ性測定
高分子熱物性試験		X線反射率測定（XRR）