二次イオン質量分析(SIMS)とは

二次イオン質量分析法(SIMS)は、固体の表面を調べる方法の一つです。
固体表面にイオンビームを照射し、生成された二次イオンを分析することで、表面の元素組成、化学構造、微量元素の分布などを高精度に解析することができます。

装置によっては、スパッターリングによって、深さ方向の分析も可能です。半導体中の不純物の深さ方向分析や多層膜における元素の相互拡散などの解析に用いられています。

対応情報

二次イオン質量分析(SIMS)に対応可能な企業

二次イオン質量分析(SIMS)に用いる装置

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