全反射蛍光X線分析(TXRF)とは

全反射蛍光X線分析(TXRF)、微量金属汚染を評価するために使われる分析方法です。

洗浄工程などでウエハ表面に付着してしまう金属汚染は、半導体製品の品質を大きく損なってしまう可能性があります。 TXRFは、こうした微量な金属汚染を非破壊で分析することができ、半導体製造における品質管理に欠かせない技術となっています。

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