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※各製品は特徴を抜粋して掲載を行っています。他の用途に対応している製品もあります。ご了承ください。
1.均一な広い透過領域を確保し、ダメージレスなサンプルを作りたい
TEM観察においては、観察対象領域が均一に薄く、広い透過面積を持つことが求められます。しかし、従来のイオンミリングでは、照射ビームの不安定さや加工ムラにより、試料中央部に厚さが残ったり、周辺部が過剰に削れたりといった問題が生じやすく、高品質な透過領域の確保が困難でした。また、過剰なビームエネルギーによって試料に損傷が入り、構造解析に影響を及ぼすケースもあります。

均一薄膜+ダメージレスなTEM試料作製
最新式のイオンミリングシステム等を利用することで、広い範囲で薄い領域を残した、TEM試料を作製することが可能になります。素材ごとに特性が異なるため、加工厚さの不均一が起きやすい中でも、半導体・金属・セラミックス・複合材料など、材質を問わず高い再現性で均一な薄膜領域を確保できます。
「サンプル品質」の課題を解決してくれる装置
製品 | 対応情報 | 特徴 | 企業名 | 関連情報 |
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種類 TEM用イオンミリング装置 イオン源 ビーム径:350μm(100eV時1mm) 試料冷却 可 |
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株式会社ニューメタルス エンド ケミカルス コーポレーション | 装置の詳細 資料ダウンロード お問い合わせ |
2.熱に弱い試料が加熱され、構造変化や脱ガスが発生してしまう
高分子材料や有機系試料、リチウム系化合物など、熱に敏感な試料では、ミリング中の局所加熱により構造変化や脱ガス、さらには分解が起こることがあります。特にイオンビーム照射時の熱ダメージは、再結晶化やアモルファス化といった不可逆な変化を招き、原子スケールの観察精度を大きく損なう原因になります。従来の装置では冷却性能が不十分で、加工条件に制限が出たり、試料の選定自体に制約が課されることもあります。

冷却機構を搭載した装置なら、液体窒素等による温度可変冷却が可能に
試料温度の上昇を抑えることで、熱による再結晶化・脱ガス・構造緩和といったダメージを抑制しながらミリングが行えます。熱に敏感な材料(例:有機・高分子・リチウム系・低融点金属など)の試料作製にも最適です。
「熱に弱いサンプルの作製」の課題を解決してくれる装置
製品 | 対応情報 | 特徴 | 企業名 | 関連情報 |
---|---|---|---|---|
![]() |
種類 SEM用イオンミリング装置 イオン源 ビームエネルギー:100eV~10keV 試料冷却 可 |
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株式会社ニューメタルス エンド ケミカルス コーポレーション | 装置の詳細 資料ダウンロード お問い合わせ |
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新着情報
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2025.4.25
ニュース
「微小加工装置 お悩みを解決する装置を探す」(当ページ)を公開しました。
微小加工装置とは
微小加工装置とは、電子顕微鏡(特にTEMやSEM)による高分解能観察に向けて、観察対象となる試料を薄く精密に加工するための装置です。材料の構造を極限まで高精度に可視化するには、試料自体が非常に薄く、均一で、かつ観察に適した状態である必要があります。
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