蛍光X線分析(XRF)とは

分析試料にX線を照射した時に発生する二次(蛍光)X線の強度を電気的に測定する分析法。広い含有率領域で高い分析精度が得られる分析方法です。

通常の装置では、5B~92Uの範囲測定が可能で、標準試料を用いれば定量分析も可能となります。基本的に非破壊分析です。

蛍光X線分析(XRF)に対応可能な企業

蛍光X線分析(XRF)に用いる装置

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