蛍光X線分析(XRF)とは
分析試料にX線を照射した時に発生する二次(蛍光)X線の強度を電気的に測定し、広い含有率領域で高い分析精度が得られる分析方法です。
試料に含まれているNa~Uの多元素を同時に測定することが可能で、樹脂製品の元素分析に活用されています。未知試料のときは、元素分析の結果だけでは何由来の添加剤かわからないため、樹脂製品から溶剤分別した分別物をIR分析、GC/MS分析等の結果とあわせることで、金属系の添加剤が分析できます。
蛍光X線分析(XRF)装置は波長分散型とエネルギー分散型に大別され、それぞれ次のような特徴があります。
- 波長分散型XRFの特徴
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- 測定元素:Na~U
- 測定雰囲気:真空
- 測定径:30mmφ
- 検出感度:数ppm
- 試料形態:固体、粉体
- 前処理:成形プレス
- エネルギー分散型XRFの特徴
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- 測定元素:Na~U
- 測定雰囲気:真空、大気
- 測定径:1、3、10mmφ
- 検出感度:数十~数千ppm
- 試料形態:固体、粉体、液体
- 前処理:不要
蛍光X線分析(XRF)に対応可能な企業
蛍光X線分析(XRF)に用いる装置
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- 蛍光X線分析装置(XRF)
- 分析する試料にX線を照射し、試料から放出されるX線のエネルギーを分析して、試料に含まれている元素と元素の量を測定する装置。
関連規格
- JIS G1351
- フェロアロイ-蛍光X線分析方法
- JIS H1287
- ニッケル及びニッケル合金-蛍光X線分析方法
- JIS H1631
- チタン合金-蛍光X線分析方法
- JIS K0119
- 蛍光X線分析通則
- JIS K0148
- 表面化学分析-全反射蛍光X線分析法(TXRF)によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法
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